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液冷散熱成高階AI基礎設施標配 明年滲透率有望達六成

液冷散熱成高階AI基礎設施標配 明年滲透率有望達六成

根據TrendForce最新AI server產業研究,在AI基礎設施的建置浪潮下,以NVIDIA、AMD、Google為首的AI晶片持續迭代,單晶片的熱設計功耗(TDP)普遍已超越1kW,整櫃式AI server方案的功率更攀升至數百kW,液冷散熱逐步成為高階AI基礎設施的標準配置。TrendForce預估,2026年液冷於AI晶片的滲透率將達53%,2027年有望逼近60%。 《詳全文...》

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