台積電、ASML攜手推12吋High NA EUV光罩 2031年前建試產線
還沒有人評分
以下為摘要，完整報導請至原媒體
半導體設備龍頭ASML與晶圓代工龍頭台積電（2330）宣布攜手推動High NA EUV光罩升級，將現行6吋光罩放大至12吋，並規畫2031年前建立試產線、2033年導入先進製程量產。新規格可望提升晶圓廠生產力、降低製造成本，也能免除現行High NA EUV曝光需以兩張6吋光罩拼接的限制。 《詳全文...》
閱讀完整原文 →其他媒體的相關報導
依標題自動比對，可能不完全是同一件事。
- 自由時報攜手艾司摩爾 台積電推12吋光罩
還沒有人評分
- 中央社台積電攜ASML推進12吋光罩 2031年建試產線攻先進製程
還沒有人評分
- 新頭殼台積電High NA EUV邁大步！攜ASML推12吋光罩、擬2030年導入量產
還沒有人評分
評論 (0)
這則報導寫得好嗎？
評的是報導本身：有沒有查證、交代得完不完整、寫得清不清楚——不是你同不同意它的立場。
點星星後登入就會送出評分，接著可以再補上文字評論。
目前還沒有評論，成為第一個留言的人吧！