瑞銀：未來10年中國料難趕上ASML極紫外光微影技術

（中央社台北2日電）跨國投行瑞銀集團（UBS）分析師預估，中國半導體製造能力未來10年內可能仍難取得足夠進展，以開發出可替代荷蘭半導體設備廠艾司摩爾（ASML）尖端極紫外光（EUV）微影技術的可行方案。