用於7奈米以下製程！中國工博會上海新創廠商展出EUV樣機
還沒有人評分
以下為摘要，完整報導請至原媒體
正在中國上海舉行的中國國際工業博覽會上，一家上海新創廠商低調展出7奈米以下最先進製程晶片所需極紫外光（EUV）微影設備樣機。 美國對中國實施先進技術出口管制，中國則由政府主導突破限制。...…
閱讀完整原文 →其他媒體的相關報導
依標題自動比對，可能不完全是同一件事。
看 3 家媒體的報導並排比較 →評論 (0)
這則報導寫得好嗎？
評的是報導本身：有沒有查證、交代得完不完整、寫得清不清楚——不是你同不同意它的立場。
點星星後登入就會送出評分，接著可以再補上文字評論。
目前還沒有評論，成為第一個留言的人吧！